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Lin / Ryan / Wu

Materials, Processes, Integration and Reliability in Advanced Interconnects for Micro- And Nanoelectronics

Volume 990: Symposium Held April 10 12, 20

Medium: Buch
ISBN: 978-1-107-40871-5
Verlag: Cambridge University Press
Erscheinungstermin: 26.07.2012
Lieferfrist: bis zu 10 Tage

Autoren/Hrsg.

Herausgeber

Lin, Qinghuang

Ryan, E. Todd

Wu, Wen-Li